具体测试对象:
闪烁体晶体及薄膜表面、直接转换型半导体辐射探测材料
探测器电极金属化层、表面钝化层及界面
辐照改性半导体材料、剂量计材料表面、中子探测用转换层材料等
原理:以单色X射线辐照样品表面,光子能量大于原子内层电子结合能,激发光电子逸出表面。测量逸出光电子的动能分布,由光电发射方程换算电子结合能,获得X射线光电子能谱。峰位对应元素及化学态,峰强反映元素相对含量。
作用:定性及半定量分析辐射探测材料表面元素组成、化学价态及电子结构。可鉴别探测器电极金属化层的氧化态;评估表面钝化层化学计量比;分析辐照诱导的表面化学损伤与元素迁移;为探测器表面工程、界面优化及失效分析提供表面化学信息。
样品须为固体,表面须洁净,无挥发性有机物、油脂或粉尘污染。样品尺寸须与仪器样品台适配,厚度满足真空要求。表面尽量平坦,粉末样品可压片或粘附于导电胶。对超高真空系统,样品须具备低放气率。辐照后样品须在真空转移盒中转运以保持表面原始状态,避免大气暴露引入吸附污染。绝缘样品需进行荷电补偿,导电样品须可靠接地。
3.1氩离子刻蚀引起的化学态还原。
惰性气体离子刻蚀去除表面污染层时,溅射过程择优溅射轻元素或氧,导致部分金属氧化物被还原至低价态。辐射探测材料中高价态离子可能被优先还原,使表面化学态信息失真。须采用团簇离子或低能离子刻蚀以降低还原效应,并在报告中注明刻蚀条件。
3.2X射线诱导样品辐照损伤。
长时间X射线辐照下,部分辐射敏感材料(如有机闪烁体、含卤素化合物)发生化学键断裂或金属离子还原,光谱随时间演变。须缩短采集时间,降低X射线功率,或采用扫描模式减少单位面积辐照剂量,并在测量前后对比全谱以评估辐照损伤程度。

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