具体测试对象：
闪烁体晶体及薄膜、探测器光学窗口及钝化层
直接转换型半导体辐射探测材料、辐照改性半导体
中子探测用转换层材料、剂量计材料等
1 项目介绍
原理：以迈克尔逊干涉仪将宽谱红外光源分为两束并引入光程差后重新合束，形成干涉图，经傅里叶变换得到红外吸收或透射光谱。样品特征振动吸收峰对应化学键或晶格声子模式，峰位反映化学键类型及键合环境。
作用：定性鉴别辐射探测材料中的杂质、缺陷及化学键合状态。可定量分析闪烁体晶体中阴离子杂质含量；表征辐照引起的化学键断裂与新键生成；评估探测器窗口材料红外透过率；为辐射探测材料纯化工艺监控及辐照损伤化学机制分析提供非破坏性手段。
2 样品要求
透射模式要求样品红外透过性良好，双面抛光且厚度适配。反射模式要求表面为镜面。ATR模式要求样品与晶体紧密接触。待测薄膜须衬底无红外强吸收干扰。样品须充分干燥，避免水汽吸收掩盖目标峰。辐照后样品须在暗态下稳定，测量环境需干燥气氛或氮气吹扫以抑制CO₂和水汽干扰。
3 常见问题
3.1干涉条纹调制吸收基线。
双面抛光的探测器窗口或衬底内部多光束反射形成Fabry-Perot干涉，在透射光谱基线叠加周期性正弦干涉条纹。条纹幅度可与材料中微量杂质的弱吸收峰相当，使小吸收峰被掩盖或与条纹波谷混淆。可采用楔形衬底破坏干涉条件，或对基线进行傅里叶滤波去除正弦分量。
3.2样品潮解与表面吸附层干扰。
部分闪烁体单晶易吸湿潮解，表面水解产物产生额外红外吸收峰，与体材料本征吸收叠加，误导杂质指认。辐照后样品表面吸附气氛分子也引入干扰。须在干燥惰性气氛手套箱中制备并密封样品，对比新鲜解理面光谱以鉴别表面吸附贡献。
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