具体测试对象：
无机半导体粉末光催化剂、半导体光催化薄膜
掺杂及固溶体光催化剂、异质结光催化剂
负载型金属/半导体光催化剂、缺陷态工程改性光催化剂等
1 项目介绍
原理：以单色激光照射样品，入射光子与样品分子或晶格振动发生非弹性散射，散射光子频率相对于入射光发生位移，位移量对应分子振动或声子模式的能量。采集散射光强度随拉曼位移的分布，获得反映化学键振动与晶格结构信息的拉曼光谱。
作用：表征光催化剂的晶体结构、晶相组成及结晶质量；鉴别掺杂或缺陷引起的晶格畸变与局域结构变化；原位监测光催化反应过程中催化剂表面物种的吸附、脱附及结构演变；区分锐钛矿/金红石相等多晶型组分相对含量；评估异质结界面处的应力与电子耦合效应。
2 样品要求
样品可为粉末、薄膜或块材，粉末须研磨均匀，薄膜须沉积于无荧光本底的衬底上。样品表面须平整、洁净，无荧光污染物附着。测试前须确认激发波长不引起样品强荧光背底或光化学损伤。光敏性样品须控制入射激光功率以避免激光诱导相变或热分解。若需原位测量，反应池须具备光学窗口，窗口材料在激发波长处无拉曼信号干扰。
3 常见问题
3.1荧光背底干扰。
样品自身或表面吸附有机物的荧光强度常远超拉曼信号，表现为光谱基线急剧抬升，特征峰被淹没，须更换长波长激发光源或采用荧光淬灭技术加以抑制。
3.2激光诱导样品损伤。
高功率密度激光照射下，部分光催化剂发生光还原、相变或局部烧结，拉曼峰频移或消失，须降低激光功率并缩短曝光时间，测量前后对比光谱验证样品未损伤。
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